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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1998-0000520 (1998-01-17) |
공개번호 | 20-1999-0034234 (1999-08-25) |
등록번호 | 20-0211264-0000 (2000-11-11) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019980000520 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1998-01-17) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 고안은 반도체 제조장비의 핫플레이트 냉각장치에 관한 것으로, 종래에는 핫플레이트를 냉각시키기 위하여 대류열전달을 이용하거나 또는 별도의 냉각수를 이용하고 있으나, 대류열전달을 이용하는 방안은 냉각효과에 비해 소요시간이 지나치게 길어져 다양한 온도조건에 신속하게 대응할 수 없게 되는 한편, 별도의 냉각수를 공급하는 방안은 기존의 핫플레이트를 개조하여야 하는 문제점이 있었던 바, 본 고안에서는 통상적인 오븐에 내장된 핫플레이트에 착탈되어 그 핫플레이트를 소정온도로 냉각시키는 쿨링플레이트와, 별도의 이송수단에 의해 핫플레이트로부터 이
통상적인 오븐에 내장된 핫플레이트에 착탈되어 그 핫플레이트를 소정온도로 냉각시키는 쿨링플레이트와, 별도의 이송수단에 의해 핫플레이트로부터 이격되는 쿨링플레이트를 원래의 온도로 복원시키는 쿨링유니트로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 핫플레이트 냉각장치.
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