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반도체의 포토 공정에 사용되는 포토 공정 장비 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록실용신안
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/027
출원번호 20-1999-0002517 (1999-02-19)
공개번호 20-2000-0017181 (2000-09-25)
등록번호 20-0365536-0000 (2004-10-12)
DOI http://doi.org/10.8080/2019990002517
발명자 / 주소
  • 라광일 / 경기도부천시원미구중동***-*
출원인 / 주소
  • 동부일렉트로닉스 주식회사 / 서울 강남구 대치동 ***-**
대리인 / 주소
  • 장성구; 김원준 (JANG, Seong Ku)
  • 서울시 서초구 양재동 ***-* 트러스트타워**층(제일광장특허법률사무소); 서울시 서초구 양재동 ***-* 트러스트타워**층(제일광장특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2002-02-19)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 고안은 반도체 포토 공정에 사용되는 포토 공정 장비에 관한 것으로, 포토 공정이 실행되는 각 유닛이 원통형으로 구성된 트랙 시스템(60)을 포함하는 것에 의해, 웨이퍼의 이송 시간 및 로봇 아암(20)의 작동 반경을 최단거리로 단축할 수 있어, 작업 효율을 향상시킬 수 있다는 효과가 있다.

대표청구항

반도체의 포토공정에 사용되는 포토공정 장비에 있어서,포토공정이 실행되는 각 유닛이 원통형으로 구성된 트랙 시스템(60)을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토공정 장비.

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 반도체 장치의 반사 방지막 제거용 현상 트랙 유닛 | 장규환, 박흥수, 송재인
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 포토레지스트 패턴을 이용하는 집적회로 소자의 제조 방법 | 왕종, 김남영
    상세보기

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