[특허]화학기상증착 장비의 티이오에스(ＴＥＯＳ) 가스 배달라인 가열장치

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[한국특허] 화학기상증착 장비의 티이오에스(ＴＥＯＳ) 가스 배달라인 가열장치
APPARATUS FOR TEOS GAS DELIVERY LINE HEATING IN CHEMICALVAPOR DEPOSITION EQUIPMENT 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개실용신안
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/20
출원번호	20-1999-0003750 (1999-03-10)
공개번호	20-2000-0017994 (2000-10-05)
DOI	http://doi.org/10.8080/2019990003750
발명자 / 주소	현광호 / 경기도부천시원미구원미동-*
출원인 / 주소	동부일렉트로닉스 주식회사 / 서울 강남구 대치동 *-
대리인 / 주소	장성구; 김원준 (JANG, Seong Ku) 서울시 서초구 양재동 **- 트러스트타워층(제일광장특허법률사무소); 서울시 서초구 양재동 - 트러스트타워**층(제일광장특허법률사무소)
심사진행상태	취하(심사미청구)
법적상태	취하

초록 ▼

본 고안은 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition : CVD) 장비에 구비된 TEOS 가스 배달라인의 대부분을 가열하는 장치에 관한 것이다. 종래의 기술에 있어서는 TEOS 가스 배달라인이 길게 설치되어 있음에도 불구하고 액화 상태의 TEOS 가스를 가스 혼합부(22) 직전에만 가열시켜서 기화시키기 때문에, 이 액화 상태의 TEOS 가스의 기화가 불안정하게 이루어져 이후의 챔버내에서 웨이퍼에 산화막을 입히는 공정이 불안정하게 이루어진다. 또한, 챔버내에서 웨이퍼에 특정 증착 공정시 균일한 증착 두께 형성이 어렵고 파티클(particle)이 발생하게 되는 결점이 있다. 이에, 본 고안에서는 유량 제어부(34)와 가스 혼합부(46) 사이의 TEOS 가스 배달라인을 가열하도록 한다. 따라서, 액화 상태의 TEOS 가스의 기화가 안정하게 이루어져 이후의 챔버내에서 웨이퍼에 산화막을 입히는 공정이 안정하게 이루어진다. 또한, 챔버내에서 웨이퍼에 특정 증착 공정시 균일한 증착 두께 형성이 용이하고 파티클이 발생하지 않는다.

대표청구항

유량 제어부, TEOS 가스 인젝터, 및 가스 혼합부를 차례로 각각 연결시키는 각각의 TEOS 가스 배달라인을 구비하는 화학기상증착 장비에 있어서:상기 각각의 TEOS 가스 배달라인을 각각 가열하여 상기 유량 제어부로부터 공급되는 액화 상태의 TEOS 가스를 상기 유량 제어부의 후단부터 기화시키는 각각의 가열부를 포함하는 화학기상증착 장비의 TEOS 가스 배달라인 가열장치.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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