초록 ▼

본 고안은 반도체 웨이퍼의 포토레지스트 접착력 강화용 기체 발생 장치를 개시한다. 개시된 본 고안은, 탱크의 상부면에 액상의 HMDS가 공급되는 입구와, 기체화된 HMDS가 오븐으로 배출되는 출구가 각기 형성되고, 입구와 출구 각각에는 밸브가 설치된다. 또한, 탱크의 상부 측면에는 입구를 통해 액상의 HMDS가 공급될 때, 탱크 내부의 공기를 배기하기 위한 배기구가 형성되고, 이 배기구에도 밸브가 설치된다. 탱크의 상부면에는 액상의 HMDS의 수위를 감지하는 용량 센서가 부착된다. 탱크의 저면에는 초음파 진동자가 설치되어, 이 초음

본 고안은 반도체 웨이퍼의 포토레지스트 접착력 강화용 기체 발생 장치를 개시한다. 개시된 본 고안은, 탱크의 상부면에 액상의 HMDS가 공급되는 입구와, 기체화된 HMDS가 오븐으로 배출되는 출구가 각기 형성되고, 입구와 출구 각각에는 밸브가 설치된다. 또한, 탱크의 상부 측면에는 입구를 통해 액상의 HMDS가 공급될 때, 탱크 내부의 공기를 배기하기 위한 배기구가 형성되고, 이 배기구에도 밸브가 설치된다. 탱크의 상부면에는 액상의 HMDS의 수위를 감지하는 용량 센서가 부착된다. 탱크의 저면에는 초음파 진동자가 설치되어, 이 초음파 진동자가 액상의 HMDS에 초음파 진동을 인가하게 되므로써, 버블을 발생시키게 된다. 초음파 진동자에서 인가되는 초음파는 초음파 제어부에 의해 제어된다.

대표청구항 ▼

반도체 웨이퍼 표면에 증착된 산화막에 포토레지스트의 접착력을 강화시키기 위해 사용되는 액상 화합물을 기체로 전환시키는 기체 발생 장치로서,상기 액상 화합물이 공급되는 입구와 기체화된 화합물이 배출되는 출구가 상부면에 형성된 탱크;상기 탱크의 상부면에 설치되어, 액상 화합물의 수위를 감지하는 용량 센서;상기 용량 센서에 의해 감지된 액상 화합물의 수위에 따라 입구와 출구를 선택적으로 개폐하는 밸브;상기 탱크의 저면에 설치되어, 액상 화합물에 초음파를 인가하여 버블이 생성되도록 하는 초음파 진동자; 및상기 초음파 진동자로부터 액상 화합

반도체 웨이퍼 표면에 증착된 산화막에 포토레지스트의 접착력을 강화시키기 위해 사용되는 액상 화합물을 기체로 전환시키는 기체 발생 장치로서,상기 액상 화합물이 공급되는 입구와 기체화된 화합물이 배출되는 출구가 상부면에 형성된 탱크;상기 탱크의 상부면에 설치되어, 액상 화합물의 수위를 감지하는 용량 센서;상기 용량 센서에 의해 감지된 액상 화합물의 수위에 따라 입구와 출구를 선택적으로 개폐하는 밸브;상기 탱크의 저면에 설치되어, 액상 화합물에 초음파를 인가하여 버블이 생성되도록 하는 초음파 진동자; 및상기 초음파 진동자로부터 액상 화합물에 인가되는 초음파를 제어하여 기체 발생량을 조절하는 초음파 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 포토레지스트 접착력 강화용 기체 발생 장치.