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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 20-2007-0020748 (2007-12-26) |
공개번호 | 20-2009-0006521 (2009-07-01) |
등록번호 | 20-0461429-0000 (2012-07-05) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2020070020748 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-12-01) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 고안은 반도체 또는 디스플레이 기판을 세정수나 약액을 이용하여 습식 세정하는 기판 세정용 챔버에 관한 것이다.본 고안의 구성은, 기판 세정을 수행하기 위한 세정공간을 형성하는 벽체와, 이 벽체에 설치되어 상기 세정공간에서 발생하는 미스트를 배출하는 미스트 배출부와, 상기 세정공간을 관측할 수 있도록 상기 벽체에 설치되는 관측창 및, 상기 미스트 배출구로 배출되는 미스트가 상기 관측창을 경유하지 못하도록 미스트의 배출 기류에 역방향으로 에어를 분사하는 에어 분사부를 포함하여 이루어진다.위와 같이 구성된 본 고안에 따른 기판 세정용
기판 세정을 수행하기 위한 세정공간을 형성하는 벽체;상기 벽체에 설치되어 상기 세정공간에서 발생하는 미스트를 배출하는 미스트 배출부;상기 세정공간을 관측할 수 있도록 상기 벽체에 설치되는 관측창; 및상기 미스트 배출부로 배출되는 미스트가 상기 관측창을 경유하지 못하도록 미스트의 배출 기류에 역방향으로 에어를 분사하는 에어 분사부를 포함하여 이루어진 기판 세정용 챔버.
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