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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0064558 (2020-05-28) | |
공개번호 | 10-2021-0147391 (2021-12-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200064558 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-05-28) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
투명기판 상에 위상반전막 및 차광성막이 형성된 블랭크마스크로서, 차광성막은 산소(O)를 포함하는 층이 2층 이상인 다층막, 또는 질소(N) 및 산소(O) 중 하나 이상이 연속적으로 변화하는 연속막을 포함하여 구성된다.차광성막의 식각 속도를 증가시킴과 동시에 면저항이 낮은 차광성막을 형성함으로써, 레지스트막의 두께를 저감시킬 수 있다.따라서, 미세 패턴 형성 및 고해상도 구현이 가능하다.
투명기판 상에 위상반전막 및 차광성막이 형성된 블랭크마스크에 있어서,상기 차광성막은 산소(O)를 포함하는 층이 2층 이상인 다층막, 또는 질소(N) 및 산소(O) 중 하나 이상이 연속적으로 변화하는 연속막을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 블랭크마스크.
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