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[한국특허] 기판 세정용 챔버 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록실용신안
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-021/304
출원번호 20-2007-0020748 (2007-12-26)
공개번호 20-2009-0006521 (2009-07-01)
등록번호 20-0461429-0000 (2012-07-05)
DOI http://doi.org/10.8080/2020070020748
발명자 / 주소
  • 정인석 / 경기도 고양시 덕양구 화신로 ***, ****동 ***호 (행신동, 햇빛마을)
출원인 / 주소
  • 주식회사 케이씨텍 / 경기도 안성시 미양면 제*공단*길 **
대리인 / 주소
  • 남진우
심사청구여부 있음 (2010-12-01)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 고안은 반도체 또는 디스플레이 기판을 세정수나 약액을 이용하여 습식 세정하는 기판 세정용 챔버에 관한 것이다.본 고안의 구성은, 기판 세정을 수행하기 위한 세정공간을 형성하는 벽체와, 이 벽체에 설치되어 상기 세정공간에서 발생하는 미스트를 배출하는 미스트 배출부와, 상기 세정공간을 관측할 수 있도록 상기 벽체에 설치되는 관측창 및, 상기 미스트 배출구로 배출되는 미스트가 상기 관측창을 경유하지 못하도록 미스트의 배출 기류에 역방향으로 에어를 분사하는 에어 분사부를 포함하여 이루어진다.위와 같이 구성된 본 고안에 따른 기판 세정용

대표청구항

기판 세정을 수행하기 위한 세정공간을 형성하는 벽체;상기 벽체에 설치되어 상기 세정공간에서 발생하는 미스트를 배출하는 미스트 배출부;상기 세정공간을 관측할 수 있도록 상기 벽체에 설치되는 관측창; 및상기 미스트 배출부로 배출되는 미스트가 상기 관측창을 경유하지 못하도록 미스트의 배출 기류에 역방향으로 에어를 분사하는 에어 분사부를 포함하여 이루어진 기판 세정용 챔버.

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