초록 ▼

본 고안은 화학기상증착(CVD:Chemical Vapor Deposition)을 위한 공정챔버용 서셉터에 관한 것으로, 공정챔버 내부에 배치되어 상부에 증착대상체가 놓이게 되는 디스크;상기 디스크를 위한 승강수단; 및상기 공정챔버 내부바닥면에 지지되며 상기 디스크를 관통하여 상기 증착대상체와 접하게 되는 로드, 상기 로드가 내장되고 상기 로드를 따라 상하 슬라이딩 되며 상기 디스크 하부에 고정 결합되는 바디, 그리고 상기 바디의 승강 동작을 안내하는 가이드로 이루어진 서포터;를 포함하여 이루어지되,상기 로드의 상단부에는 탈착형 팁헤

본 고안은 화학기상증착(CVD:Chemical Vapor Deposition)을 위한 공정챔버용 서셉터에 관한 것으로, 공정챔버 내부에 배치되어 상부에 증착대상체가 놓이게 되는 디스크;상기 디스크를 위한 승강수단; 및상기 공정챔버 내부바닥면에 지지되며 상기 디스크를 관통하여 상기 증착대상체와 접하게 되는 로드, 상기 로드가 내장되고 상기 로드를 따라 상하 슬라이딩 되며 상기 디스크 하부에 고정 결합되는 바디, 그리고 상기 바디의 승강 동작을 안내하는 가이드로 이루어진 서포터;를 포함하여 이루어지되,상기 로드의 상단부에는 탈착형 팁헤드가 구비되어 있고,상기 팁헤드는 SIC코팅된 그라파이트(Graphite)로 이루어진 것을 특징으로 하는 서셉터를 개시한다.본 고안에 의한 화학기상증착을 위한 공정챔버용 서셉터는,상기 승강수단에 의해 상기 디스크 하강 시 이와 함께 하강하는 상기 서포터의 바디 내부에서 상기 로드가 수직상태를 유지함으로써 상기 증착대상체의 수평 상태 유지가 가능하여 증착대상체의 파손을 최소화할 수 있는 효과가 있다.또한, 상기 로드의 팁헤드가 SIC코팅된 그라파이트로 이루어짐에 따라, 상기 증착대상체와의 온도 차를 최소화하여 증착대상체의 표면에 자국이 발생하는 것을 최소화할 수 있는 효과가 있다.

대표청구항 ▼

화학기상증착용 공정챔버 내부에 배치되어 구동장치에 의해 승하강되는 서셉터에 있어서,상기 공정챔버(C) 내부에 배치되어 상부에 증착대상체(O)가 놓이게 되는 디스크(10);상기 디스크(10)를 위한 승강수단(20); 및상기 공정챔버(C) 내부바닥면에 지지되며 상기 디스크(10)를 관통하여 상기 증착대상체(O)와 접하게 되는 로드(31), 상기 로드(31)가 내장되고 상기 로드(31)를 따라 상하 슬라이딩 되며 상기 디스크(10) 하부에 고정 결합되는 바디(32), 그리고 상기 바디(32)의 상하 단부에 각각 구비되어 바디(32)의 승

화학기상증착용 공정챔버 내부에 배치되어 구동장치에 의해 승하강되는 서셉터에 있어서,상기 공정챔버(C) 내부에 배치되어 상부에 증착대상체(O)가 놓이게 되는 디스크(10);상기 디스크(10)를 위한 승강수단(20); 및상기 공정챔버(C) 내부바닥면에 지지되며 상기 디스크(10)를 관통하여 상기 증착대상체(O)와 접하게 되는 로드(31), 상기 로드(31)가 내장되고 상기 로드(31)를 따라 상하 슬라이딩 되며 상기 디스크(10) 하부에 고정 결합되는 바디(32), 그리고 상기 바디(32)의 상하 단부에 각각 구비되어 바디(32)의 승강 동작을 안내하는 가이드(33)로 이루어진 서포터(30);를 포함하되,상기 가이드(33)는 상기 로드(31)와 접하도록 로드(31)를 기준으로 방사상으로 배열된 둘 이상의 아이들롤러로 이루어지고,상기 로드(31)의 상단부에는 팁헤드(311)가 탈착 가능하게 구비되되, 상기 팁헤드(311)는 화학기상반응법을 이용하여 그라파이트 표면의 탄소를 반응원으로 하고 규소 성분과 반응시키는 공법에 의하여 SIC코팅된 그라파이트로 이루어지며,상기 디스크(10)의 하부에는 상기 바디(32)의 상단부가 삽입되도록 상방 요입된 결합공간부(S), 그리고 상기 결합공간부(S)의 주변 영역에 방사상으로 배열된 둘 이상의 체결부(13)가 형성되고,상기 바디(32)의 상단부에는 둘레를 따라 돌출된 환형걸림부(321)가 형성되며,상기 각 체결부(13)에는 볼트(12)가 체결되되, 상기 볼트(12)의 헤드가 상기 결합공간부(S)에 삽입된 상기 바디(32)의 환형걸림부(321)를 지지하게 되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착을 위한 공정챔버용 서셉터.