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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0866755 (2004-06-15) |
공개번호 | US-0017168 (2005-01-27) |
우선권정보 | KR-0050460 (2003-07-23) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
In semiconductor manufacturing equipment having a residual gas analyzing apparatus for analyzing the composition of residual gas in a process chamber of the equipment, a heater of the residual gas analyzer is interlocked with a heater of the process chamber. The residual gas analyzer includes an ion
1. A system for use in analyzing residual gas in semiconductor manufacturing equipment, comprising: an ion detector operative to detect the composition of ions in a gas; a heater disposed in a heat exchange relationship with said ion detector so as to heat said ion detector; a power source that supp
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