[특허]Process for preparing terephthalic acid

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C07C-051/42
출원번호	US-0084153 (1979-10-12)
우선권정보	JP-0128709 (1978-10-19)
발명자 / 주소	Hashizume Hiroshi (Kitakyushi JPX) Harada Sigeki (Nakama JPX)
출원인 / 주소	Mitsubishi Chemical Industries Ltd. (Fujuoka JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 23 인용 특허 : 0

초록 ▼

Preparation of terephthalic acid by oxidizing p-xylene with molecular oxygen in an acetic acid solvent in the presence of a catalyst containing at least one heavy metal and bromine. Preparation of terephthalic acid of high purity accompanied by low level of combustion of the acetic acid solvent can be achieved by (i) introducing p-xylene and molecular oxygen into a first reaction zone kept at a temperature of 180°-230°C. to oxidize at least 95% by weight of the p-xylene into terephthalic acid; (ii) introducing the reaction mixture obtained from the first reaction zone into a second reaction zone kept at a temperature of 0°-50°C. below the temperature of the first reaction zone in which the reaction mixture is subjected to post-oxidation with molecular oxygen without supplying p-xylene; and (iii) introducing the reaction mixture obtained from the second reaction zone into a third reaction zone kept at a temperature of at least 230°C. in which the reaction mixture is subjected again to post-oxidation with molecular oxygen without supplying p-xylene, and subjecting the resulting reaction mixture to crystallization and then to solid-liquid separation to recover terephthalic acid.

대표청구항 ▼

In a process for preparing terephthalic acid of high purity by reacting p-xylene with molecular oxygen in an acetic acid solvent in the presence of a catalyst containing at least one heavy metal and bromine, the improvement comprising the steps of: (i) introducing p-xylene and molecular oxygen into a first reaction zone kept at a temperature of 180°-230°C. to oxidize at least 95% by weight of the p-xylene into terephthalic acid thereby forming a terephthalic acid－containing slurry; (ii) introducing the terephthalic acid－containing slurry from the first reaction zone into a second reaction zone kept at a temperature 2°-30°C. below the temperature of the first reaction zone in which the terephthalic acid－containing slurry is subjected to post-oxidation with molecular oxygen without supplying p-xylene, whereby oxidation intermediates present in the mother liquor of the slurry are oxidized; and, (iii) introducing the terephthalic acid－containing slurry from the second reaction zone into a third reaction zone kept at a temperature of at least 230°C. in which the terephthalic acid－containing slurry is subjected again to post-oxidation with molecular oxygen without supplying p-xylene, whereby at least a part of the terephthalic acid crystals in the slurry are dissolved and those oxidation intermediates occluded in the terephthalic acid crystals are oxidized, and subjecting the resulting reaction mixture to crystallization and then to solid-liquid separation to recover terephthalic acid.

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