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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0343316 (1989-04-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 6 |
A lift-off process for forming patterned films of particular use for films of metals that need to be deposited in a non-directional fashion. The process features a lift-off mask that includes a thin coating of Brewer Science ARC�
A process for providing a patterned film on a surface of a substrate comprising the steps of: forming for use as a mask a dual layer over said surface, said dual layer comprising a bottom assisting layer of a thickness no greater than about 2000 Angstroms and a top layer of photoresist of a thicknes
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