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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0625013 (1990-12-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 0 |
Cathodic arc deposition method and apparatus, including an arc evaporation source containing a film forming material. A substrate is arranged on the central axis line of and in front of the evaporation surface of the arc evaporation source. At least one magnet coil is arranged around the central axi
A cathodic arc deposition apparatus, comprising: an arc evaporation source having an evaporation surface containing a film forming material; a substrate surface arranged on a central axis line of and facing the evaporation surface of the arc evaporation source; and at least one magnet coil means for
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