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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0822361 (1992-01-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 0 |
A photo-assisted chemical vapor deposition system includes a reaction chamber, a susceptor in the reaction chamber supporting a wafer, a source for introducing reactant gas into the reaction chamber through an inlet port, and a cover positioned in sealed relationship to the housing and partially bou
A photo-assisted chemical vapor deposition system, comprising in combination: (a) a reaction chamber having a housing; (b) a susceptor in the reaction chamber supporting a substrate, such as a semiconductor wafer; (c) means for introducing reactant gas into the reaction chamber through an inlet port
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