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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0684506 (1996-07-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 6 |
An attenuated phase shift mask comprises a first layer having a thickness to provide a transmission in the range of about 3 to 10% formed on a transparent substrate and a second layer comprising a transparent material having a thickness to provide a desired phase shift, formed on said first layer. F
[ What is claimed is:] [1.] An attenuated phase shift mask comprising a first layer having a thickness to provide a transmission in the range of about 3 to 10% formed on a transparent substrate and a second layer comprising a transparent material having a thickness to provide a desired phase shift a
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