$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Process for the production of a glass article having at least one recess 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03C-015/00
출원번호 US-0407264 (1999-09-27)
발명자 / 주소
  • Weigert, Martin
출원인 / 주소
  • Infineon Technologies AG
대리인 / 주소
    Greenberg, Laurence A.Stemer, Werner H.Mayback, Gregory L.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 6

초록

An etching mask with at least one etching window is applied on a glass object consisting substantially of boron silicate glass. Subsequently, the glass object is etched through the etching window by using, for instance, HF, thereby producing trapezoidal trenches or truncated pyramidal grooves in its

대표청구항

An etching mask with at least one etching window is applied on a glass object consisting substantially of boron silicate glass. Subsequently, the glass object is etched through the etching window by using, for instance, HF, thereby producing trapezoidal trenches or truncated pyramidal grooves in its

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Froning Edilbert A. (Bodanstrasse 23 7772 Oberuhldingen DEX) Langner Klaus A. (Alte Dorfstrasse 61 7770 berlingen DEX), Method of coupling electro-optical components to integrated-optical waveguides.
  2. Angenent Johannes H. (Paris FRX) Heijman Maritza G. J. (Eindhoven NLX) Spierings Gijsbertus A. C. M. (Eindhoven NLX), Method of manufacturing a planar optical component.
  3. Aoyama Masaharu (Yokohama JPX) Ohshima Jiro (Yokohama JPX) Yonezawa Toshio (Yokosuka JPX), Method of producing semiconductor device.
  4. Rath David L. ; Gale Glenn W. ; Jagannathan Rangarajan ; McCullough Kenneth J. ; Madden Karen P. ; Okorn-Schmidt Harald F. ; Pope Keith R., Selective etching of silicate.
  5. Deckert Cheryl A. (Lawrenceville NJ) Schnable George L. (Lansdale PA), Silicon nitride and silicon oxide etchant.
  6. Sung Kang H. (Seoul KRX), Slope etching process.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Lee,Moon chul; Choi,Hyung; Jung,Kyu dong; Jang,Mi; Hong,Seog woo; Chung,Seok whan; Jun,Chan bong; Kang,Seok jin, Method of forming a via hole through a glass wafer.
  2. Castle, Thomas Michael; Huang, Tian; Jin, Yuhui; Levesque, Jr., Daniel Wayne; Petriwsky, Tammy Lynn, Methods of etching glass substrates and glass substrates.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로