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Method for preparing silicon carbide single crystal 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C30B-023/00
  • C30B-028/12
  • C30B-028/00
출원번호 UP-0712841 (2007-03-01)
등록번호 US-7635413 (2010-01-08)
우선권정보 JP-2004-257041(2004-09-03); JP-2004-304132(2004-10-19); JP-2004-338898(2004-11-24)
발명자 / 주소
  • Kusunoki, Kazuhiko
  • Kamei, Kazuhito
  • Yashiro, Nobuyoshi
  • Yauchi, Akihiro
  • Ueda, Yoshihisa
  • Itoh, Yutaka
  • Okada, Nobuhiro
출원인 / 주소
  • Sumitomo Metal Industries, Ltd.
대리인 / 주소
    The Webb Law Firm
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 9

초록

A SiC single crystal is produced by the solution growth method in which a seed crystal attached to a seed shaft is immersed in a solution of SiC dissolved in a melt of Si or a Si alloy and a SiC single crystal is allowed to grow on the seed crystal by gradually cooling the solution or by providing a

대표청구항

The invention claimed is: 1. A method for producing a silicon carbide single crystal comprising immersing a seed crystal on which SiC is to be grown by the solution growth method and which is attached to a seed shaft in a melt in a rotating crucible, the melt comprises Si and C and at least one met

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Nishizawa Jun-ichi (Sendai JPX), Apparatus for performing solution growth of group II-VI compound semiconductor crystal.
  2. Kimbel Steven L. (St. Charles MO) Korb Harold W. (Town & Country MO) Hall Cynthia F. (St. Peters MO), Apparatus for rotating a crucible of a crystal pulling machine.
  3. Janz��n,Erik; R��back,Peter; Ellison,Alexandre, Device and method for producing single crystals by vapor deposition.
  4. Frosch Robert A. Administrator of the National Aeronautics and Space Administration ; with respect to an invention of ( Salt Point NY) Ciszek Theodore F. (Salt Point NY) Schwuttke Guenther H. (Poughk, Growth of silicon carbide crystals on a seed while pulling silicon crystals from a melt.
  5. Kamio Hiroshi (Tokyo JPX) Araki Kenji (Yokohama JPX) Shima Yoshinobu (Yokohama JPX) Suzuki Makoto (Kawasaki JPX) Kazama Akira (Kawasaki JPX) Horie Shigetake (Tokyo JPX) Nakahama Yasumitsu (Yokohama J, Manufacturing method and equipment of single silicon crystal.
  6. Hara,Kazukuni; Nagakubo,Masao; Onda,Shoichi, Manufacturing method for producing silicon carbide crystal using source gases.
  7. Yury Alexandrovich Vodakov RU; Mark Grigorievich Ramm ; Evgeny Nikolaevich Mokhov RU; Alexandr Dmitrievich Roenkov RU; Yury Nikolaevich Makarov ; Sergei Yurievich Karpov RU; Mark Spiridonovich , Method for growing low defect density silicon carbide.
  8. Shibata Masatomo,JPX ; Furuya Takashi,JPX, Method of fabricating nitride crystal, mixture, liquid phase growth method, nitride crystal, nitride crystal powders, and vapor phase growth method.
  9. Shima Yoshinobu (Tokyo JPX) Araki Kenji (Tokyo JPX) Kamio Hiroshi (Tokyo JPX) Suzuki Makoto (Tokyo JPX), Silicon single crystal manufacturing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Chikusa, Noboru; Kitagawa, Teruhisa; Ito, Masaki; Ito, Takanori, Apparatus for producing single crystal silicon.
  2. Nomura, Tadao; Yamagata, Norio; Minowa, Takehisa, Method of producing SiC single crystal.
  3. Kusunoki, Kazuhiko; Kamei, Kazuhito; Yashiro, Nobuyoshi; Koike, Junichi, SiC single crystal wafer and process for production thereof.
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