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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0427947 (2009-04-22) |
등록번호 | US-8205629 (2012-06-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 7 |
A method and apparatus that solve the problem of accurate measurement of gas flow so that the delivery of gases in semiconductor processing may be performed with greater confidence and accuracy by performing real-time characterization of a lead-line for mass flow controller (MFC) flow verification a
1. A method for controlling gas flow in a semiconductor processing system, comprising: measuring a mass flow of gas without correcting for lead-line influences;determining a gas mass flow correction factor based on real-time pressure and temperature measurements from the lead-line;determining a corr
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