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[미국특허] Method, optical module and auto-focusing system for wafer edge exposure 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/34
  • G02B-007/32
  • G02B-007/36
  • G03F-007/20
출원번호 US-0441838 (2012-04-06)
등록번호 US-9081149 (2015-07-14)
우선권정보 CN-2011 1 0295452 (2011-09-29)
발명자 / 주소
  • Wu, Qiang
  • Gu, Yiming
출원인 / 주소
  • SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING) CORPORATION
대리인 / 주소
    Innovation Counsel LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 10

초록

Embodiments relate to a method, optical module and auto-focusing system for wafer edge exposure. The optical module comprises a light source emitting light of a wavelength to expose a photoresist, an exposing optics and a mask with an aperture between the light source and the exposing optics. The li

대표청구항

1. An auto-focusing system for wafer edge exposure, comprising: an optical module, comprising: a light source used for emitting light of a wavelength required to expose a photoresist, a first mask with a first aperture;a first optics;a second optics, wherein the light emitted from the light source p

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Hattori Ken (Tokyo JPX), Exposure apparatus.
  2. Hayashida Yasushi (Yokoshima JPX) Anai Noriyuki (Kumamoto JPX) Hirakawa Osamu (Kumamoto JPX) Akimoto Masami (Kikuyo JPX) Sakamoto Yasuhiro (Kumamoto JPX) Shigaki Keisuke (Koshi JPX) Moriyama Masashi , Exposure apparatus.
  3. Sugita Mamoru (Kumamoto JPX), Exposure method and apparatus therefor.
  4. Fujiwara,Nariaki; Tamada,Atsushi; Yamamoto,Ryusuke, Measuring apparatus.
  5. Minnaert, Arthur Winfried Eduardus; Van Buel, Henricus Wilhelmus Maria, Optical exposure method, device manufacturing method and lithographic projection apparatus.
  6. Akiyama Kazuya,JPX ; Kamei Kenji,JPX ; Yamamoto Satoshi,JPX, Periphery exposing apparatus and method.
  7. Hattori Ken (Tokyo JPX) Amano Kesayoshi (Tokyo JPX) Nakajima Masao (Kawasaki JPX) Naito Masayoshi (Sendai JPX), Periphery exposing method and apparatus therefor.
  8. Shibuya Isamu,JPX ; Minore Takeshi,JPX ; Mimura Yoshiki,JPX, Process for exposing a peripheral area of a wafer and a device for executing the process.
  9. Mimura Yoshiki,JPX ; Minobe Takeshi,JPX ; Miura Shinetsu,JPX, Process for exposing the peripheral area of a semiconductor wafer for removing unnecessary resist on the semiconductor.
  10. Liu Hsiang,TWX ; Chung Chien-Ming,TWX ; Szuma Liang,TWX ; Wang Ding-Shan,TWX, Use of wee (water edge exposure) to prevent polyimide.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Li, Yan-Ping, Light transmission device and method for semiconductor manufacturing process.
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