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Biasable flux optimizer / collimator for PVD sputter chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/34
  • C23C-014/04
출원번호 US-0277674 (2016-09-27)
등록번호 US-9960024 (2018-05-01)
발명자 / 주소
  • Riker, Martin Lee
  • Zhang, Fuhong
  • Infante, Anthony
  • Wang, Zheng
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson + Sheridan, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 12

초록

In some implementations described herein, a collimator that is biasable is provided. The ability to bias the collimator allows control of the electric field through which the sputter species pass. In some implementations of the present disclosure a collimator that has a high effective aspect ratio w

대표청구항

1. A collimator assembly, comprising: a collimator portion, comprising: a honeycomb structure having walls defining and separating hexagonal apertures, wherein the hexagonal apertures include: a first plurality of hexagonal apertures in a central region having a first aspect ratio;a second plurality

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Richard Ernest Demaray ; Chandra Deshpandey ; Rajiv Gopal Pethe, Collimated sputtering of semiconductor and other films.
  2. Mosely Roderick C. (Mountain View CA) Raaijmakers Ivo J. (San Jose CA) Hanawa Hiroji (Santa Clara CA), Collimation hardware with RF bias rings to enhance sputter and/or substrate cavity ion generation efficiency.
  3. Riker, Martin Lee, Collimator for use in substrate processing chambers.
  4. Tang Howard ; Hashim Imran ; Hong Richard ; Ding Peijun, Copper sputtering target.
  5. Somekh,Sasson R.; Schweitzer,Marc O.; Forster,John C.; Xu,Zheng; Mosely,Roderick C.; Chin,Barry L.; Grunes,Howard E., End point detection for sputtering and resputtering.
  6. Lee Jueng-gil (Kyungki KRX) Park Sun-hoo (Kyungki KRX) Choi Gil-heyun (Kyungki KRX), Method for manufacturing a collimator.
  7. Tepman Avi (Cupertino CA), Self cleaning collimator.
  8. Tepman Avi (Cupertino CA), Shield and collimator pasting deposition chamber with a wafer support periodically used as an acceptor.
  9. Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) Wagner Israel (Monsey NY), Stationary aperture plate for reactive sputter deposition.
  10. Van Gogh James (Sunnyvale CA) Dorleans Fernand (San Francisco CA) Hagerty Christopher (Pleasanton CA) Lloyd Mark (Fremont CA) Tang Howard (San Jose CA) Yang Siyaun (Cupertino CA) West R. Steve (Bould, Target and dark space shield for a physical vapor deposition system.
  11. Qixu Chen ; Charles Leu ; Mark Anthony Shows ; Paul Stephen McLeod ; Rajiv Yadav Ranjan, Target shields for improved magnetic properties of a recording medium.
  12. Edelstein Sergio (116 El Altillo Los Gatos CA 95030) Khurana Nitin (1700 Halford Ave. #205 Santa Clara CA 95051) Miyamoto Keiji (Omigawa Omigawa-machi ; Katorigun ; Chiba 289-03 JPX) Mosely Roderick , Variable cell size collimator.
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