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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0523987 (2015-12-09) |
등록번호 | US-10151980 (2018-12-11) |
우선권정보 | EP-14198263 (2014-12-16) |
국제출원번호 | PCT/EP2015/079130 (2015-12-09) |
국제공개번호 | WO2016/096571 (2016-06-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 9 |
A novel method for the manufacturing of fine line circuitry on a transparent substrates is provided, the method comprises the following steps in the given order providing a transparent substrate, depositing a pattern of light-shielding activation layer on at least a portion of the front side of said
1. Process for the manufacturing of fine line circuitry on a transparent substrate, the process comprises the following steps in the given order (i) providing a transparent substrate having a front side and a back side;(ii) providing a pattern of light-shielding activation layer on the front side of
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