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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0021999 (1999-09-21) |
공개번호 | WO-0030148 (2000-05-25) |
우선권정보 | US-0191151 (1998-11-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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A power delivery system for providing energy to sustain a plasma in a plasma processing chamber configured for processing substrates. The power delivery system includes a metallic enclosure having an input port, a first output port, a second output port, and a third output port. There is further inc
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