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NTIS 바로가기등록일자 | 2009-11-16 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=6be5fdc828074276917f7225abd92447&fileSn=1&bbsId= |
.○ 최근, 첨단 반도체, 휴대전화용 인쇄회로기판의 경박단소화 추세에 따라 균일도금 신뢰성 향상을 위한 필드비어 도금기술이 중요시되고 있다. 향후 전기화학적인 실용적인 동 도금 검지기술을 도금현장에 적용함으로써 원가절감, 품질향상, 생산성 향상이 기대된다.
○ 토시카추 오꾸보는 종래의 CVS(Cyclic Voltametry Stripping)보다 업그레이드 된 DSCV(Double Sweep Cyclic Voltametry) 전기화학적 분석방법으로 효과적인 동 도금 검지기술을 제시하였으며, 더욱이 시료의
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