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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 금동화 |
참여연구자 | 서상희 , 오세정 , 류창섭 , 김수철 , 조남규 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1988-04 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200000268 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 이온밀링.스퍼터링.금속화공정.다이아몬드.X-TEM.VLSI.Materials Characterization. |
본 연구에서는 진보된 분석기술의 하나인 투과형전자현미경을 반도체 재료의 물리적 특성을 분석하는데 활용도를 높이기 위해서 박판층이 입혀진 반도체소자의 기본구조의 단면을 분석하는 X-TEM법을 개발하고자 하였다. 연구내용은 마이크론 이하의 박판층을 가진 시료를 선택하여, X-TEM 관찰용 시편을 제작하는 과정을 확립하고, 제작과정에서 나타나는 문제점을 해결하여, 이 기술이 항상 용이하게 사용되는 기술이 되도록 하는 노력이 주를 이루고 있다. 이런 목적으로, Si-단결정 기판에 단층의 TiSi
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