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산업용 이온주입기술 개발
Development of Ion Implantation Technology for Industrial Uses 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국원자력연구소
Korea Atomic Energy Research Institute
연구책임자 최병호
참여연구자 G.A.Eliseev , 유한종 , 한전건 , 황철규 , 정기석 , 김완 , 진정태 , 윤재성 , 윤병주
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1992-08
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국원자력연구소
Korea Atomic Energy Research Institute
등록번호 TRKO200200005840
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 이온주입기술.금속이온주입기.Sputter 형 금속이온원.고온이온원.이중방전 이온원.이온주입공정기술.고침투 이온주입.Ion implantation technology.Metal ion implanter.Sputter type metal ion source.High temperature ion source.Dual discharge ion source.Ion implantation technology.Deep implantation.

초록 ▼

최종목표 : 산업용 금속이온주입 장치 및 금속이온 주입 기술개발
1차년도 목표 및 내용 :
1) 장치의 상용화 개발
- 금속이온원 개발
- 금속 이온주입장치 설계
2) 이온주입 시장조사 및 공정개발
국내외 시장조사
- 금형류 공정개발
- 베아링류 공정개발
- PCB 드릴류 및 기타
3) 이온주입 특성조사 및 평가
- 러시아의 이온주입 처리기술 분석평가
- 금속이온주입 Simulation Program 개발
- Deep Implan

목차 Contents

  • 제1장 서론...20
  • 제2장 장치의 상용화 개발...26
  • 제1절 스퍼터 형 금속이온원...26
  • 제2절 고온 이온원...64
  • 제3절 이중방전형 이온형...86
  • 제4절 금속이온 주입장치 설계...92
  • 제3장 이온주입 시장조사 및 산업용제품의 이온주입 공정개발...108
  • 제1절 국내의 시장조사...108
  • 제2절 산업용 부품의 이온주입 처리공정 개발...116
  • 제4장 이온 주입특성 조사 및 평가...135
  • 제1절 서설...135
  • 제2절 연구내용 및 방법...139
  • 제3절 결과 및 고찰...152
  • 제5장 결론 및 건의 사항...231
  • 참고문헌...233

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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