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연합인증

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산업용 이온주입 기술개발
Development of Industrial Ion Implantation Technology 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국원자력연구소
Korea Atomic Energy Research Institute
연구책임자 최병호
참여연구자 G.A.Eliseev , 문재호 , 윤수호 , 한전건 , 정기석 , 김완 , 송우섭 , 황철규
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1994-12
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국원자력연구소
Korea Atomic Energy Research Institute
등록번호 TRKO200200007114
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 초고집적회로.반도체이온주입기.대전류이온주입.산소이온주입.고에너지이온주입.MLB용PCB드릴Bit.현장적용시험.이온빔-코팅복합공정.ion implantation.semiconductor ion implanter.metal ion source.magnetic field scanning.target opertion.surface treatment.mixed ion beam processing.tools and dies.

초록

목차 Contents

  • 제 1 장 서 론...25
  • 제 2 장 반도체 이온주입기 개발...33
  • 제 1 절 반도체 이온주입기의 설계...33
  • 제 2 절 장치의 주요구성품 설계 및 제작...54
  • 제 3 절 전원 및 장치조종계...115
  • 제 4 절 장치의 특성시험 및 시험운전...126
  • 제 3 장 복합이온빔주입 및 이온빔가공기술개발...135
  • 제 1 절 내마모용 복합 이온빔코팅공정...135
  • 제 2 절 이온빔을 이용한 표면가공공정...191
  • 제 4 장 산업용제품의 이온주입공정개발...231
  • 제 1 절 개 요...231
  • 제 2 절 3 차년도 이온주입처리 현황...233
  • 제 3 절 주요제품별 이온주입공정개발...240
  • 제 4 절 결 언...253
  • 제 5 장 결론 및 건의사항...255
  • 참고문헌...259

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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