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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
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연구책임자 | 장도연 |
참여연구자 | 한성호 , 노병호 , 김만 , 이종권 , 이규환 , 이상열 , 차수섭 , 박호일 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1992-03 |
주관부처 | 과학기술부 |
연구관리전문기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
등록번호 | TRKO200200006072 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
===정밀 에칭 및 도금을 위한 Photo-masking공정 개발. === Bump 성형을 위한 정밀 도금 기술 개발. === Membrane 상의 미세회로 형성을 위한 정밀 에칭 기술개발. === Membrane probe card용 양면 회로기관 설계 제작. === Bump의 정밀 접촉 기구 개발.
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