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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국나노기술원 Korea Advanced Nano Fab Center |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-07 |
과제시작연도 | 2013 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201500012722 |
과제고유번호 | 1425080113 |
사업명 | 연구장비활용기술개발사업 |
DB 구축일자 | 2015-08-01 |
키워드 | 글라스 적층 기판.비아홀 식각기술.폴리머 기반 웨이퍼 본딩기술.글라스 비아 홀 도금 공정 기술.Via-hole.Polymer. |
□개발목표
계 획
◦글라스 적층 기판 또는 글라스 및 폴리머 적층 기판 제작 기술개발
◦MEMS 공정 기술 및 유사 공정 기술을 이용한 기판 제작 기술확보 및 평가
실 적
◦글라스 기반의 적층 기판 제작 기술 확보
◦PCB 설계, 해석 및 검증
◦제작된 글라스 기반의 적층기판의 특성 평가
□정량적 목표항목 및 달성도
평가항목(1.Size (mm2)),목표치(≤100 SQ) ,실적 (69.9 mm x 69.9 mm)
평가항목(2.Pattern Pitch (um
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