[보고서]텅스텐 박막의 화학증착

이시우

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[국가R&D연구보고서] 텅스텐 박막의 화학증착

보고서 정보
주관연구기관	한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute
연구책임자	이시우
참여연구자	황성보 , 최경근
발행국가	대한민국
언어	한국어
발행년월	1990-03
등록번호	TRKO200500015291
DB 구축일자	2013-04-18

초록

초고밀도 집적회로 제조에 적합한 새로운 금속화공정으로 알려진 화학증착법에 의한 텅스텐 제조실험을 수행하여 증착공정에 관여하는 반응메커니즘을 밝혀낸다. 텅스텐 박막은 현재 많이 쓰이고 있는 알루미늄보다 유리한 점이 많으며 특히 화학증착법은 스퍼터링법 보다

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