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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
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연구책임자 | 이재종 |
참여연구자 | 조양구 , 김광준 , 김기범 , 이득우 , 표재확 , 최기봉 , 김기홍 , 정광조 , 김병인 , 박찬훈 |
보고서유형 | 1단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2005-05 |
과제시작연도 | 2002 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO201000012178 |
과제고유번호 | 1350004038 |
사업명 | 21C 프론티어연구개발사업 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 나노 기술.나노 임프린팅.나노 패터닝.Serial 프로세서.E-빔 공정.Nano Technology.Nano Imprinting.Nano Patterning.Serial Process.E-beam Process. |
이 과제는 최근 활발히 연구되는 나노 임프린팅 기술을 구현한 장비 기술을 개발하는 것으로 크게 나노 패터닝 장비 기술 개발과 고성능 E-beam serial process 장비를 개발하는 것으로 구성된다. 각각의 연구 결과는 다음과 같다.
(가) 나노 패터닝 장비 기술
구현 원리 : UV 광을 이용한 나노 임프린팅 장비 기술
flexure 스테이지를 이용한 6자유도 passive control 기술
나노급 스테이지 기술 개발
1Hz 미만의 진동 절연 기술 개발
Overlay 및 정렬 장치에
The contact-based nano lithography, such as thermal and/or UV nano-imprint, is well-known as the next generation lithography. Especially, the UV nano-imprint lithography technology has advantages of imple process, low cost, high replication fidelity, and relatively high throughput. In this project,
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