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NTIS 바로가기주관연구기관 | 제주대학교 Cheju National University |
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연구책임자 | 김상재 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2009-08 |
과제시작연도 | 2009 |
주관부처 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO201100005052 |
과제고유번호 | 1345103440 |
사업명 | 일반연구자지원 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
나노스케일에서의 가공기술에 관한 연구는 다양한 분야의 많은 연구자들이 자신의 영역을 중심으로 기술발전을 시도하고 있으며, 첨단적인 연구결과가 매우 빠른 속도로 발표되고 있다. 현재 반도체분야는 "반도체의 성능과 집적도는 18개월마다 2배가 증가된다"는 무어의 법칙 (Moore's law)을 추월하여 급속도로 발전하고 있고, 그 집적도의 향상은 2010년에는 한계에 도달할 것으로 예측되고 있다. 현재의 장치구조를 나노크기 까지 축소 할 경우에는 발열 현상 및 전자의 양자적 성질이 변형에 의한 장치의 동작원리상의 한계 및 빛의 파장이
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