초록 ▼

고밀도 플라즈마를 발생하는 HCD gun은 공구 고팅, 세정 및 대변적 코팅 핵심장치로서 사용된다. 또한 아크 하이브리드 방식의 코팅 장비의 제작시 주요 공정용 장치로서 포함된다.
본 연구에서는 아크 플라즈마 프로세스에서 핵심적인 장비로 사용되는 HCD gun의 신뢰성 향상과 나아가서 최적화를 목표로 하였다. 기술지원기관인 한국전기연구원에서는 HCD gun의 연구전례를 활용하여 기술지원기업인 아이시스(주)에서 필요한 상용화 기술을 지원하였다. 그 결과 만족할 만한 상품수준의 HCD gun 최적화 기술을 도출 할 수 있었다. 즉

고밀도 플라즈마를 발생하는 HCD gun은 공구 고팅, 세정 및 대변적 코팅 핵심장치로서 사용된다. 또한 아크 하이브리드 방식의 코팅 장비의 제작시 주요 공정용 장치로서 포함된다.
본 연구에서는 아크 플라즈마 프로세스에서 핵심적인 장비로 사용되는 HCD gun의 신뢰성 향상과 나아가서 최적화를 목표로 하였다. 기술지원기관인 한국전기연구원에서는 HCD gun의 연구전례를 활용하여 기술지원기업인 아이시스(주)에서 필요한 상용화 기술을 지원하였다. 그 결과 만족할 만한 상품수준의 HCD gun 최적화 기술을 도출 할 수 있었다. 즉, 출력용량이 20 kW급, 사용시 유지보수가 편리한 구조, 안정적 연속운전특성 (1달 이상), 간단하고 방전개시가 용이한 구조 그리고 산업계의 실기전용이 편리한 구조의 성능을 가지는 HCD gun 기술을 확립하였다.
이상과 같은 기술적 싱과는 HCD gun 기술이 선진국 수준과 비교하여 손색이 없어 이온플레이팅 장비 등 다양한 고팅 공정에 사용되는 장비들을 국산화 하는데 활용이 가능 할 뿐만 아니라 고가의 외산 장비의 수입대체 효과도 가져온다. 또한 이번 기회에 기술력에 자신감을 가져 국산장비의 해외 판로의 여건을 더욱 성숙시켜서 아이시스(주)는 관련 장비를 이미 국내ㆍ외 시장에 판매하여 경쟁적으로 시장을 확장해 가고 있다.

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 기술지원성과 요약서 ... 3
• 기술지원성과 요약문 ... 4
• 목차 ... 13
• 제 1 장 사업의 개요 ... 14
• 제 1 절 기술지원 필요성 ... 14
• 제 2 절 기술지원 목표 ... 14
• 제 3 절 기술지원 내용 ... 15
• 제 2 장 국내외 기술현황 ... 17
• 제 1 절 미국의 기술 ... 17
• 제 2 절 일본의 기술 ... 18
• 제 3 절 한국의 기술 ... 19
• 제 3 장 기술지원 수행 및 결과 ... 20
• 제 1 절 기술지원 수행 ... 20
• 1. HCD gun의 제작 및 실험 ... 20
• 가. 텅스텐 필라멘트 실험 ... 20
• 나. 중간전극의 실험 ... 22
• 다. 실험전원 및 회로 ... 24
• 라. 실험시 발생하는 LaB6의 손상문제와 해결 ... 25
• 마. 제작한 HCD gun의 운전 ... 26
• 바. HCD gun 시험체임버의 자기회로 해석 ... 27
• 제 2 절 기술지원 성과 ... 36
• 제 4 장 목표 달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 37
• 제 1 절 지원목표 ... 37
• 제 2 절 목표달성도 ... 37
• 제 3 절 관련분야의 기여도 ... 37
• 제 5 장 기술지원결과의 활용계획 ... 38
• 제 6 장 참고문헌 ... 39