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NTIS 바로가기연구책임자 | 최영욱 |
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참여연구자 | 김영배 , 김지연 , 김대호 , 최시영 , 윤정욱 , 신연철 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2006-12 |
주관부처 | 산업자원부 |
등록번호 | TRKO201200004089 |
DB 구축일자 | 2013-05-20 |
키워드 | 중공방전 건.고밀도 플라즈마.증착.세성.표면처리.HCD gun.High density plasma.coating.cleaning.surface treatment. |
고밀도 플라즈마를 발생하는 HCD gun은 공구 고팅, 세정 및 대변적 코팅 핵심장치로서 사용된다. 또한 아크 하이브리드 방식의 코팅 장비의 제작시 주요 공정용 장치로서 포함된다.
본 연구에서는 아크 플라즈마 프로세스에서 핵심적인 장비로 사용되는 HCD gun의 신뢰성 향상과 나아가서 최적화를 목표로 하였다. 기술지원기관인 한국전기연구원에서는 HCD gun의 연구전례를 활용하여 기술지원기업인 아이시스(주)에서 필요한 상용화 기술을 지원하였다. 그 결과 만족할 만한 상품수준의 HCD gun 최적화 기술을 도출 할 수 있었다. 즉
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