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이온 플레이팅 장치의 아크 소스 성능 향상 기술 지원 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 중복존재로 삭제예정- 한국기계연구원 부설 재료 연구소
연구책임자 김종국
참여연구자 최민기 , 박창하 , 김도근
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2008-05
과제시작연도 2007
주관부처 지식경제부
사업 관리 기관 지식경제부
등록번호 TRKO201200004171
과제고유번호 1415078862
DB 구축일자 2013-05-20
키워드 아크 이온 플레이팅.원형 타겟.자석.아크증발원.Arc Ion Platring.Circle Target.Magnet.Arc evaporator.

초록

본 사업은 자동차 부품 및 공구, 금형의 고형질, 내마모 표면 물성 향상과 핸드폰 및 노트북 같은 전자제품의 외장 표면 처리에 이용되는 아크 이온 플레이팅 장치의 핵심 부품인 아크 증발원의 성능 향상과 이 개선된 장치를 이용한 다양한 박막 증착 공정 기술을 확보하는 것을 목적으로 하였다.
업체에서 기 사용하고 있는 금속 증발원을 superfish라는 자장 수치 모사 코드를 이용하여, 금속 증발원에 배치된 전자석 및 영구자석의 위치 및 방향에 따른 자장 구조를 해석하였으며, 이를 통하여 최적의 자장구조를 확보하여, 단시간에 공정

목차 Contents

  • 표 지 ... 1
  • 제 출 문 ... 2
  • 기술지원성과 요약서 ... 3
  • 기술지원성과 요약문 ... 4
  • 목 차 ... 12
  • 제 1 장 사업의 개요 ... 13
  • 제 1 절 기술지원 필요성 ... 13
  • 제 2 절 기술지원 목표 ... 14
  • 제 3 절 기술지원 내용 ... 14
  • 제 2 장 국내외 기술현황 ... 15
  • 제 3 장 기술지원 수행 내용 및 결과 ... 17
  • 제 1 절 기술지원 수행 ... 17
  • 1. 아크 증발원에 대한 이론적 교육 실시 ... 17
  • 2. 이온 플레이팅 소스 설계 기술 ... 28
  • 3. 이온 플레이팅 장치의 아크 소스 성능 고급화 기술 ... 39
  • 4. 이온 플레이팅 적용 전공 증착 및 박막의 평가 ... 42

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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