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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기술교육대학교 Korea University of Technology and Education |
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연구책임자 | 김영철 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2012-06 |
과제시작연도 | 2011 |
주관부처 | 교육과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국연구재단 |
등록번호 | TRKO201300018299 |
과제고유번호 | 1345151460 |
사업명 | 기본연구지원사업 |
DB 구축일자 | 2013-09-21 |
본 연구는 게이트 산화막에 쓰이는 고유전율 금속 산화물 박막인 HfO2가 ALD 법으로 증착되는 기구를 전산모사를 이용하여 원자 스케일의 정밀도로 분석하였다. 본 연구에 사용된 전산 모사 프로그램은 Vienna ab-initio Simulation Package (VASP) 및 QC-MD (quantum chemistry-molecular dynamics)이며 사용된 포텐셜은 VASP 의 경우 first-principles generalized gradient approximation (GGA), QCMD의 경우
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