초록 ▼

□ 개발목표
계 획
포토리소그라피용 사파이어 웨이퍼 스테퍼 척 개발
실 적
포토리소그라피용 사파이어 웨이퍼 스테퍼 척 개발

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 평면도 : 계획(1um), 실적(0.3(Type-Ⅰ), 0.5(Type-Ⅱ), 0.3(Type-Ⅲ))
2. 두께 공차 : 계획(±0.02mm), 실적(+0.011(Type-Ⅰ), +0.011(Type-Ⅱ), +0.011(Type-Ⅲ))
3. 평행도 : 계획(4um), 실적(2.5(Type-Ⅰ), 3.7(Type-Ⅱ), 3.3(

□ 개발목표
계 획
포토리소그라피용 사파이어 웨이퍼 스테퍼 척 개발
실 적
포토리소그라피용 사파이어 웨이퍼 스테퍼 척 개발

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 평면도 : 계획(1um), 실적(0.3(Type-Ⅰ), 0.5(Type-Ⅱ), 0.3(Type-Ⅲ))
2. 두께 공차 : 계획(±0.02mm), 실적(+0.011(Type-Ⅰ), +0.011(Type-Ⅱ), +0.011(Type-Ⅲ))
3. 평행도 : 계획(4um), 실적(2.5(Type-Ⅰ), 3.7(Type-Ⅱ), 3.3(Type-Ⅲ))
4. Top 부 표면조도 : 계획(0.2um), 실적(0.125(Type-Ⅲ))
5. Bottom 부 표면조도 : 계획(0.2um), 실적(0.094(Type-Ⅰ), 0.081(Type-Ⅱ), 0.106(Type-Ⅲ))
6. Vacuum hole 직경공차 : 계획(±0.05mm), 실적(0.0034(Type-Ⅰ), 0.0392(Type-Ⅱ), 0.0424(Type-Ⅲ))
7. Slot 공차 : 계획(±0.05mm), 실적(0.042(Type-Ⅱ), 0.024(Type-Ⅲ))
8. Ring 폭 : 계획(0.3mm), 실적(0.13(Type-Ⅰ), 0.13(Type-Ⅱ))
9. Ring 높이 : 계획(0.3mm), 실적(0.33(Type-Ⅰ), 0.32(Type-Ⅱ))

□ 기대효과
◦ LED 포토 공정 뿐만 아니라 타 공정의 부품 개발 및 응용 기술 확보
◦ 핵심부품 국산화 적용 및 독자적인 디자인 개발로 수출 증대 기대

□ 적용분야
◦ 초정밀 장비생산 및 부품산업에 응용, 개발에 적용 가능
◦ 차세대 반도체 부품, OLED 등의 Display 분야의 공정 장비에 핵심 부품
◦ 기존 제품의 기술 표준화, 제조 불량 감소 등 생산성 향상에 적용 가능