최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
DataON 바로가기다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
Edison 바로가기다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
Kafe 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술정보연구원 Korea Institute of Science and Technology Information |
---|---|
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-09 |
과제시작연도 | 2013 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201500013405 |
과제고유번호 | 1425082175 |
사업명 | 연구장비활용기술개발사업 |
DB 구축일자 | 2015-08-01 |
키워드 | 마그네트론스퍼터.입자 시뮬레이션.금속 증착.병렬 처리.연동해석. |
□ 개발목표
계 획
2차원 xy 좌표계의 Magnetron sputter 해석 시뮬레이터 개발
실 적
개발 완료
□ 정량적 목표 항목 및 달성도
1.Field solver 정확도 : 계획(error 0.1 %), 실적(해석해 비교에서 0.1 %달성)
2.입자 solver 정확도 : 계획(error 0.1 %), 실적(해석해 비교에서 0.1 %달성)
3. 계산 속도 : 계획(40 Hr), 실적(40 Hr 확인)
4.GUI diagnostics수 : 계획(20 개), 실적(20개
□ 개발목표
계 획
2차원 xy 좌표계의 Magnetron sputter 해석 시뮬레이터 개발
실 적
개발 완료
□ 정량적 목표 항목 및 달성도
1.Field solver 정확도 : 계획(error 0.1 %), 실적(해석해 비교에서 0.1 %달성)
2.입자 solver 정확도 : 계획(error 0.1 %), 실적(해석해 비교에서 0.1 %달성)
3. 계산 속도 : 계획(40 Hr), 실적(40 Hr 확인)
4.GUI diagnostics수 : 계획(20 개), 실적(20개 달성)
5. Target Erosion : 계획(80% 이상), 실적(error 20% 달성)
6. 증착 Profile : 계획(80% 이상), 실적(error 20% 달성)
□ 기대효과
2차원 XY 좌표계의 Magnetron Sputter 해석 시뮬레이터 (가칭 KMSPUTTER) 개발로써 건식 증착 장비를 비롯한 다양한 저압 플라즈마 장치의 내부 플라즈마 스퍼터링 현상을 이해 할 수 있으며, 증착율 및 소모율 예측을 통한 장비 설계 최적화 기여로 장비 제조 단가 절약 효과가 발생한다.
□ 적용분야
실리콘 박막 태양전지 TCO/Metal 전극 제조, CIGS 박막 태양전지 스퍼터 공정, 5.5세대급 OLED Passivation용 Al2O3 공정 적용, LCD용 투명전극의 적용, 이 밖의 Magnetron Sputter 장비 및 저압 Plasma 응용 장비의 시뮬레이션 적용
과제명(ProjectTitle) : | - |
---|---|
연구책임자(Manager) : | - |
과제기간(DetailSeriesProject) : | - |
총연구비 (DetailSeriesProject) : | - |
키워드(keyword) : | - |
과제수행기간(LeadAgency) : | - |
연구목표(Goal) : | - |
연구내용(Abstract) : | - |
기대효과(Effect) : | - |
Copyright KISTI. All Rights Reserved.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.