초록 ▼

□개발목표
계 획
수요처(YAGEO, 대만) 요청사항에 적합한 니켈페이스트개발
실 적
수요처 요구 스펙 충족
□정량적 목표항목 및 달성도
1. 니켈평균입경 (D50):계획( 200nm이하),실적( 141.2 nm )
2. 니켈최대입경(Dmax):계획( 700nm이하),실적( 469.2 nm )
3. 점도(10rpm):계획( 11~15Pa․s ),실적(14.25 Pa․s )
4. 표면조도(Rmax):계획( 0.35um이하),실적( 0.280 um )
5. 건조막밀도:계획(5.3

□개발목표
계 획
수요처(YAGEO, 대만) 요청사항에 적합한 니켈페이스트개발
실 적
수요처 요구 스펙 충족
□정량적 목표항목 및 달성도
1. 니켈평균입경 (D50):계획( 200nm이하),실적( 141.2 nm )
2. 니켈최대입경(Dmax):계획( 700nm이하),실적( 469.2 nm )
3. 점도(10rpm):계획( 11~15Pa․s ),실적(14.25 Pa․s )
4. 표면조도(Rmax):계획( 0.35um이하),실적( 0.280 um )
5. 건조막밀도:계획(5.3g/cm³이상),실적(5.368 g/cm³ )
6. 칩정전용량(Cp):계획( ±10%이내),실적( 9.84 uF (±8%))
7. Coverage :계획(70%이상),실적( 81 % )
□기대효과
세계3위의 MLCC업테인 수요처의 개발요청에 부합하는 MLCC용 도전성페이스트개발에 성공함으로써, 당사 개발 페이스트 기술력 대한 검증과 동시에 여타 국내외 관련시장으로의 판로확대가 가능함.
□적용분야
200nm 급 분말 적용 페이스트가 필수적인 MLCC High-end 기종 전극재

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 중소기업 기술개발사업 최종보고서 ... 2
• 제출문 ... 3
• 요약서(초록) ... 4
• 목차 ... 5
• 제1장 개발기술의 개요 ... 6
• 제1절 개발기술의 중요성 ... 6
• 제2절 관련기술 현황 ... 8
• 제2장 개발목표 및 개발내용 ... 11
• 제1절 기술개발 목표 ... 11
• 제2절 세부 개발내용 및 방법 ... 12
• 제3절 목표달성도 평가결과 ... 19
• 제3장 성과요약 및 기대효과 ... 40
• 제1절 성과요약 ... 40
• 끝페이지 ... 42