초록 ▼

핵심기술
그라비아 옵셑이나 리버스 그라비아 옵셑에 적용하여 10미크론 급의 배선을 할 수 있는 고전도성을 지닌 실버나노페이스트를 개발

사업화 배경
나노금속입자를 기반으로 하는 전극형성용 잉크의 경우 금속입자의 작은 크기로 인하여 저온 소결성이 우수함으로 플라스틱 기반의 플렉시블 전자에 적용되는 저온공정에서도 벌크금속이 가지는 전도성을 갖는 전극 구현이 용이한 큰 장점을 가지고 있으며 또한 작은 입자 크기로 인해 기존의 보편적인 인쇄공정으로 달성하기 힘들었던 10미크론 미만의 선폭을 가지는 전극을 대면적으로 용

핵심기술
그라비아 옵셑이나 리버스 그라비아 옵셑에 적용하여 10미크론 급의 배선을 할 수 있는 고전도성을 지닌 실버나노페이스트를 개발

사업화 배경
나노금속입자를 기반으로 하는 전극형성용 잉크의 경우 금속입자의 작은 크기로 인하여 저온 소결성이 우수함으로 플라스틱 기반의 플렉시블 전자에 적용되는 저온공정에서도 벌크금속이 가지는 전도성을 갖는 전극 구현이 용이한 큰 장점을 가지고 있으며 또한 작은 입자 크기로 인해 기존의 보편적인 인쇄공정으로 달성하기 힘들었던 10미크론 미만의 선폭을 가지는 전극을 대면적으로 용이하게 구현할 수 있다는 장점을 가져 차세대 디스플레이의 저비용 제조 기술의 핵심 소재로 부각되고 있다.

최종목표
본 과제의 최종 목표는 그라비아 옵셑이나 리버스 그라비아 옵셑에 적용하여 10미크론 급의 배선을 할 수 있는 고전도성을 지닌 실버나노페이스트를 개발하고 이를 터치스크린 판넬의 미세배선과 OLED 조명용 음극 전극의 버스 보조전극에 응용하는 것이다.

사업화 내용 및 결과
1. 다양한 크기(10~200nm)의 은 나노입자.
:표면 개질을 통한 입자 극성 제어
2. Ag 페이스트 제조
•페이스트 안정화 : 용매 및 분산제 조절
•롤투롤 그라비아 공정용 페이스트: 분산입도<10um, 점도 < 20,000cps
3. 인쇄특성 및 프린팅 공정 확립
•선폭: <10 um/ 체적저항: 20uΩ.cm
•인쇄용 블랑켓 페드와 공정 접합성 제어: 전사율 고려 용매 조절(극성, 건조성, swelling 둥)인쇄기의 doctoring 성 확보: 입자 크기 최적화

핵심개발 기술의 의의
10미크론 미만의 선폭을 가지는 전극을 구현할 수 있는 고전도성 전극 잉크소재를 터치패널의 미세 배선 전극이나 투명전극 등에 적용가능하게 되었고, 또한 터치패널용 투면전극 형성 및 전자파 차폐용 메쉬 필림등의 투명 도전성 메쉬필름에도 적용 가능하여 다양한 제품화가 가능 하게 됨.

적용 분야
1) 20미크론 미만의 선폭을 가지는 전극을 구현할 수 있는 전극소재를 개발하여 5선 저항막 방식과 정전용량 방식 터치패널의 전극으로 사용한다.
2) ITO 상에 보조전극(버스전극)을 요구하는 OLED 조명 시장에 활용가능하다
3) 시각적으로 드러나지 않음으로써 우수한 광 투과도를 구현하며, 우수한 전도도와 꺽임이나 접힘에 대해 안정한 물성을 나타내는 ITO 투명전극 필름 대체 도전성 필름을 만들어 터치패널의 투명 전극으로도 적용이 가능하다.