최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
DataON 바로가기다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
Edison 바로가기다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
Kafe 바로가기주관연구기관 | (주)예스티 |
---|---|
연구책임자 | 신재무 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2015-12 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO201600017113 |
과제고유번호 | 1415144834 |
사업명 | 소재부품기술개발(R&D) |
DB 구축일자 | 2017-09-20 |
키워드 | 오엘이디.엘시디.에프피디.8세대.판형 열원.아이알.OLED.LCD.FPD.8G.Plate Heater.IR. |
최종목표
1) 8세대 평면 디스플레이 진공 열처리 공정을 위한 500℃급 판형 IR 제어 열원 개발
2) 기술개발 최종 목표
- 8G 상압 열원 500℃급 제어열원 운영가능 온도 영역: 200 ~ 500℃
- 8G 상압 열원 500℃급 제어열원 온도 안정성: ±1℃
- 8G 상압 열원 500℃급 제어열원 온도 분포: ±5℃
- 8G 진공 적층용 500℃급 제어 열원 운영 가능 온도 영역: 200 ~ 500℃
- 8G 진공 적층용 500℃급 제어 열원 온도 안정성: ±1℃
- 8G 진공 적층
최종목표
1) 8세대 평면 디스플레이 진공 열처리 공정을 위한 500℃급 판형 IR 제어 열원 개발
2) 기술개발 최종 목표
- 8G 상압 열원 500℃급 제어열원 운영가능 온도 영역: 200 ~ 500℃
- 8G 상압 열원 500℃급 제어열원 온도 안정성: ±1℃
- 8G 상압 열원 500℃급 제어열원 온도 분포: ±5℃
- 8G 진공 적층용 500℃급 제어 열원 운영 가능 온도 영역: 200 ~ 500℃
- 8G 진공 적층용 500℃급 제어 열원 온도 안정성: ±1℃
- 8G 진공 적층용 500℃급 제어 열원 온도 분포: ±5℃
2. 기술개발 개요
[적용군 : 평판디스플레이 기술 동향]
- 평판 디스플레이의 대형화와 함께 IT, 모바일 등 시장 요구사항에 맞추어 기능의 고도화 및 다기능화 측면으로 생산 공정 및 기술 개발에 집중
- 기능의 고도화 및 다기능화를 위한 Display의 backplane의 기술 동향은 저비용 공정으로 높은 Mobility를 얻기 위한 방향으로 노력이 집중
[요구 사항]
- 8G급 이상의 대형 AMOLED패널 제조기술은 LTPS 공정 및 유기물 증착 공정에서 대형화의 한계로 신규 기술 필요
- Oxide TFT 공정은 a-Si TFT과 매우 유사하나 a-Si에는 없는 고온 공정이 포함되어 기존 저온용 열원 사용 불가
- LTPS Panel의 대형화로 300℃ 이상 고온 열처리가 필요한 신규공정 대표 공정으로 isolation layer cure, pre-compaction, crystallization, 탈수소화, 활성화, 수소화, Sintering 등이 있으며 이 이외에도 공정 사이의 Anneal 혹은 cleaning 목적으로 많은 고온 열처리 장비가 필요
[대형 평판 디스플레이 제작의 핵심 공정]
- 저렴한 생산단가로 높은 Mobility를 갖는 poly-Si 층을 제작하기 위한 비정질 실리콘 증착과정에서 불가피하게 함유된 다량의 수소 제거 (탈수소 공정)
- 가시광선 영역에서 높은 투과도를 나타내며, 낮은 면저항과 높은 유전율을 갖는 투명 전극의 개발 (투명 전극의 열처리 공정)
3) 신뢰성 최종 목표
- IR Lamp Uniformity: 10%
- 다채널 온도 컨트롤러: 32채널
- 다채널 파워 컨트롤러: 32채널
- IR Lamp Lifetime: 6,000시간
개발내용 및 결과
[MTTF 6,000시간 이상의 고온용 IR Lamp 개발]
- 근·중·원적외선 분석, 분광분포 분석, 온도영역 분석을 통하여 장시간에 안정적으로 사용할 수 있는 Halogen IR Lamp 개발
- 굵기, 길이, 파장 別 열전달 효율 비교 등의 분석과 전기적, 물리적 test를 통하여 최적의 Lamp 조건 확보
- 이중 봉합 Sealing의 일자(-)형 IR Lamp 개발 및 Sealing부 단열에 유리한 Chamber 구성으로 Lamp 수명 향상
[다체널 기능의 Power & Temp. Controller 개발]
- 대형 정밀 제어 공정을 위한 전면적에 대응할 수 있는 32Channel의 온도 및 파워 컨트롤러 개발
- 빠른 Feedback과 T/C 및 Power 수량 조정 기능의 Control Logic 및 Calibration Algorithm 제어 프로그램 개발
[8G급 상압용 열원 개발]
- 3가지 type의 IR 열원 개발 및 적용 및 24Zone의 고속/정밀 온도 Controller을 통하여 8G용 500℃급 판형 IR 제어 열원 개발 완료
- 성능 평가 결과
: 운영 온도 영역 (200~500oC)
: 제어열원 온도 안정성 (±1oC 이내)
: 제어열원 온도 분포도 (±5oC 이내)
[8G급 진공 적층용 열원 개발]
- 일자(-)형 Lamp 개발로 Compact한 구성의 적층 열원 개발
- Arcing 대응을 위하여 Lamp간 최적거리 조절 및 Chamber 내부 구조 개선과 Lamp의 구조개선(2중 석영 접합, 세라믹 몰딩, Cable변경)으로 8G급 진공 적층용 500℃급 판형 IR 제어 열원 개발 완료
- 성능 평가 결과
: 운영 온도 영역 (200~500oC)
: 제어열원 온도 안정성 (±1oC 이내)
: 제어열원 온도 분포도 (±5oC 이내)
: Ramping up rate (15oC/min 이상)
[Sample test를 통한 최적의 공정 조건 확보]
- ITO 및 IGZO Sample test를 통하여 본 개발 장비의 적합성 확인과 홍보성 자료 확보
기술개발 배경
[평판디스플레이 시장]
- 기능의 고도화 및 다기능화 측면으로 기술이 집중되고 있음
- LCD용 TFT의 고기능화 및 Oxide TFT 적용
- AMOLED용 LTPS Panel의 대형화
- LTPS 대형화 및 신규 Oxide TFT 공정 대응용 신규 Concept 열원 필요
- 국내 Panel 생산 업체의 양산라인 투자 진행
[현 시장의 한계 점]
- 현재 열원의 대형 디스플레이 고온 공정 대응 불가
- 대형 정밀 제어 공정을 위하여 전면적에 대응할 수 있는 다체널 제어 방식 필요
- IR Lamp의 5,000시간 이상의 수명 확보
[개발이 필요한 핵심 공정]
- 디스플레이용 채널 형성 공정 및 탈수소화 공정
- 투명 전극 열처리의 대형화 장비 필요 (IGZO, ITO 등)
핵심개발 기술의 의의
1) 기존 열원으로는 대형 디스플레이 고온 공정 대응 불가로 인하여 새로운 열원 개발이 시급한 상황임
2) 소재 및 몇몇 구매품을 제외하고 핵심 Unit에 대하여 100% 국내에서 자체적으로 제작 진행하였음 (총 90% 이상)
3) 당해연도 3월부터 사양협의를 시작하여 10월에 수요기업 8G 양산라인에 당사 Chamber를 납품하였으며 중국에서 대규모의 투자 예정과 기존 8G라인의 증설이 있을 예정으로 지속적인 수출 가능이 예상 됨
4) 양산라인이 돌아가고 있는 현재까지도 협업을 통하여 열원에 대한 꾸준한 연구가 진행 될 정도로 최상의 개발 난이도를 갖는 기술임
적용 분야
LCD, AMOLED 등의 대형 열처리장비가 필요한 모든 시장
(출처:기술개발사업 최종보고서 초록)
과제명(ProjectTitle) : | - |
---|---|
연구책임자(Manager) : | - |
과제기간(DetailSeriesProject) : | - |
총연구비 (DetailSeriesProject) : | - |
키워드(keyword) : | - |
과제수행기간(LeadAgency) : | - |
연구목표(Goal) : | - |
연구내용(Abstract) : | - |
기대효과(Effect) : | - |
Copyright KISTI. All Rights Reserved.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.