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NTIS 바로가기주관연구기관 | 동진쎄미켐(주) |
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연구책임자 | 김재현 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-06 |
과제시작연도 | 2013 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
과제관리전문기관 | 한국산업기술평가관리원 Korea Evaluation Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO201600017641 |
과제고유번호 | 1415129407 |
사업명 | 소재부품기술개발 |
DB 구축일자 | 2017-09-20 |
키워드 | 블록공중합체.중성층.포토리소그래피.자기조립.나노 패터닝.block-copolymer.neutral layer.photolithography.self-assembly.nanopatterning. |
□ 최종목표
DSA 패턴형성기술의 확립을 위하여 과제는 하기와 같은 최종목표를 가진다.
반도체 공정에 사용이 가능한, DSA 패턴 형성을 위한 중성층(하부층)의 개발.
반도체 패턴 상에서 자가정렬시 공정별 spec을 만족하는 자가정렬이 가능한 블록공중합체의 합성 및 정제 기술.
DSA공정을 이용한 미세패턴의 구현뿐만 아니라 형성되어진 반도체 패턴의 축소를 통한 패턴 미세화 기술의 확립.
□ 개발내용 및 결과
블록공중합체를 이용한 반도체 패턴 형성기술을 위해서는 블록공중합체 제어기술을 바탕으로한
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