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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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연구책임자 | 김형재 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2017-10 |
과제시작연도 | 2016 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
등록번호 | TRKO201700017481 |
과제고유번호 | 1711045574 |
사업명 | 국가과학기술연구회연구운영비지원 |
DB 구축일자 | 2017-11-25 |
키워드 | 화학기계적 연마.컨디셔닝.시뮬레이션.영역제어.패드프로파일.궤적밀도.Chemical Mechanical Polishing.Conditioning.Simulation.Zone Control.Pad Profile.Conditioning Density. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201700017481 |
개발의 목표
○ 패드 절삭 프로파일 안정화를 위하여 패드형상의 컨디셔닝 궤적 예측 기술을 개발하고 이를 통해 패드수명 향상, 안정적 연마재현성능을 구현하는 고신뢰성 300mm CMP장비 구현을 목적으로 함
개발내용 및 결과
가. 소프트웨어 기술
○ 300mm CMP장비의 GUI에 설치 가능한 컨디셔닝 궤적 예측 소프트웨어 기술 개발
- 컨디셔너 스윕 제어조건과 패드 회전수에 따른 컨디셔너 암의 패드표면 커버리지 예측
- 컨디셔너의 궤적 및 구조에 따른 패드 전면의 컨디셔닝 밀도 계산 S/W개발
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