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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 강성모 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2016-12 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
연구관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO201800006251 |
과제고유번호 | 1711028793 |
사업명 | 글로벌프론티어사업 |
DB 구축일자 | 2018-05-12 |
키워드 | 2차 스퍼터링 현상.나노 패터닝.고해상도.유연기판.높은 종횡비.secondary sputtering.Nano patterning.high resolution.soft substrate.high aspect ratio. |
본 연구진이 2010년 개발한 Top-down 방식의 2차 스퍼터링 현상을 이용한 10nm대의 3차원 나노 패터닝 방법을 이용 및 응용하여 초고해상도와 높은 종횡비를 갖춘 정밀한 패턴을 대면적의 유연기판 위에 전사하는 새로운 유연 소자를 위한 나노 공정 기술을 개발하는 것이다.
(출처 : 요약서 3p)
Purpose & Contents
The purpose is development of 10nm scale 3-dimensional nano-patterning method on the soft substrate which is precise, high aspect ratio and high resolution from new patterning method called secondary sputtering lithography developed by our research group in 2010
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