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연구목표
◦ 최종 연구목표
- 초박막 공정기술이란 수 ~ 수십 Å 수준의 박막을 조성하기 위한 원료, 공정, 장비 환경 등을 모두 포함하는 기술로 반도체, 디스플레이, 태양전지 등 최첨단 국가산업의 핵심기술로 국내 현실에 적합한 초박막 공정용 측정 기준 제시 및 국가 표준 개발
◦ 해당단계 연구목표
- 초박막 공정기술에 필요한 장비, 공정 표면 및 증착원료 원천 측정기술 확보

연구내용
◦ 1년차 연구내용
- 고밀도 플라즈마 발생기술 및 진공펌프 측정변수확장, 복합상태진단기술
- 레이

연구목표
◦ 최종 연구목표
- 초박막 공정기술이란 수 ~ 수십 Å 수준의 박막을 조성하기 위한 원료, 공정, 장비 환경 등을 모두 포함하는 기술로 반도체, 디스플레이, 태양전지 등 최첨단 국가산업의 핵심기술로 국내 현실에 적합한 초박막 공정용 측정 기준 제시 및 국가 표준 개발
◦ 해당단계 연구목표
- 초박막 공정기술에 필요한 장비, 공정 표면 및 증착원료 원천 측정기술 확보

연구내용
◦ 1년차 연구내용
- 고밀도 플라즈마 발생기술 및 진공펌프 측정변수확장, 복합상태진단기술
- 레이저산란시스템 측정영역확장 및 적외선 활용 정략분석 시스템 설계
- AFM/SE 표면조직측정기술, STM이용 표면결함 및 국소전기특성 측정, 다성분 박막정량분석
- 끓는점 이용한 증기압측정 시스템 설계

◦ 2년차 연구내용
- 고밀도플라즈마 공정 안정화기술 및 진공펌프 에너지변환 및 효율성 측정 기술
- 플라즈마 cut off probe 측정영역 확장 및 실시간 가스 정량분석 시스템 제작 및 기초평가
- 분해능 sub-nm의 표면조직 AFM 측정기술 및 다성분 정량분석 표준절차 개발
- 끓는점 이용한 증기압측정 기술 및 데이터 확보

◦ 3년차 연구내용
- 고밀도 플라즈마 공정 특성 안정화기술 및 진공펌프 에너지 실시간 모니터기술
- 플라즈마 진단기 (Cutoff probe) 측정신뢰도 향상기술 및 가스 정량분석장치 공정평가
- 공정가스 정량분석을 위한 멀티스테이지 적외선 센서 구조 최적화
- 오염입자 실시간 측정용 소형화 센서 신뢰도 향상 기초 연구
- 고체 박막증착원료의 열물성 측정 및 산업체지원
- 고체 박막 증착소재의 끓는점을 이용한 증기압측정 및 산업체지원
- 고진공에서의 유기증착원료의 열안정성 측정 시스템 설계 및 제작
- Sub-nm 영역의 표면조직측정 및 InSnOx 박막 정량분석용 CRM 및 SiGe 합금박막 표면 정량분석법 개발
- SiGe 합금박막 표면 정량 분석법 개발 및 신뢰성 향상
- XPS, AES 및 SIMS에 의한 SiGe 합금박막 표면 정량 분석 및 불확도 향상

◦ 4년차 연구내용
- 초박막 플라즈마 증착 공정 측정, 제어기술 개발 및 가스 정량분석 장치 양산공정 적용평가/성능 개선 연구 , 공정 상태 진단 웨이퍼 온도 센서 시스템 개발 및 제작
- 초박막 공정 플라즈마 진단기술 성능개선, 공정환경 적용특성연구 및 진공배기계 통 에너지 저감 시스템 개발
- 공정하부 진공배기계통 에너지 저감 진단시스템 및 실시간 모니터 기술
- 평판형 Cutoff 진단기 구조 개선을 통한 감도 향상 연구
- 초박막 증착 입자 측정 및 박막 특성 제어 기술 개발
- 박막증착소재의 열안정성 평가기술 시스템 구축
- 코팅부품 표면온도 측정 시스템 구축 및 불소가스 시스템 구축
- 웨어러블 OLED의 봉지막 제조용 atomic layer deposition/cyclic chemical vapor deposition 장비 구축 및 기초 성능 평가
- 나노 표면측정 교정 능력 확보 기술 개발 및 InSnOx 박막 정량분석 RRT 시행, SiGe 합금박막 CRM 개발 및 유기박막 깊이분포도 분석을 위한 스퍼터링 조건 확립
- 불확도 계산 방법 보완 및 나노 표면측정 교정 능력 확보 기술 개발

◦ 5년차 연구내용
- 공정 상태 진단 웨이퍼 온도 센서 시스템 개발 및 제작
- 초박막 플라즈마 증착 공정 측정, 초박막 특성 측정을 통한 고품질 박막 공정원 천기술개발, 가스 정량분석장치 상용화를 위한 시스템 최적화 및 핵심모듈 성능 향상연구
- 공정 상태 진단 웨이퍼형 센서(온도) 측정 영역(플라즈마 진단) 확장 및 기초 평가
- 평판형 진단기에서의 플라즈마 측정 정밀도 향상을 위한 회로모델링 구현
- 공정가스 정량분석을 위한 calibration 기법 개발 및 실공정 평가
- 실시간 오염입자 측정 센서 정확도 향상을 위한 기초 연구
- 플라즈마 물성 제어 기반 15 nm급 균일한 실리콘 나노입자 생성
- 초박막 공정 플라즈마 측정기술 확보 및 측정 불확도 개선 및 진공배기계통 whole-measurement 인프라 구축
- 나노 표면측정 국제 비교를 통한 국제 소급성 확보, 품질 시스템 확립
- 나노 표면측정 국제 비교를 통한 국제 소급성 확보, 품질 시스템 확립 및 SiGe 합금박막 공동분석 및 유기박막 깊이분포도 측정 기술 개발
- AG, YSZ 코팅부품 내플라즈마성 조건최적화, 코팅부품 산업체 내플라즈마성 평가 대외지원 및 시험절차 확립
- 고효율 OLED 봉지막 제조용 atomic layer deposition/cyclic chemical vapor deposition을 활용, 봉지박막 증착원료의 고속 증착공정에 대한 안정성 및 신뢰성 평가 기술 확보
- 코팅부품 산업체 내플라즈마성 평가 대외지원
- 웨어러블 디스플레이용 저온 증착 봉지막 형성에 대한 안정성 및 신뢰성 평가 기술 확보

기대효과(응용분야 및 활용범위 포함)
◦ 국내 중소, 중견산업 경쟁력 확보
- 박막 측정기술 개발을 통한 반도체, 디스플레이 소재, 부품, 장비 신뢰도 개선 국산화
- 부품소재, 장비관련 중소·중견기업에의 신뢰성 측정기술 보급 및 제품 고품질화를 통한 산업경쟁력 확보 및 국내외 시장 확대
- 반도체, LCD, OLED 등 IT 제조산업 고급인력 일자리 창출
◦ 첨단 산업 소재 핵심 측정 소급체계 확립에 따른 분석 신뢰도 향상을 통한 첨단산업 공정 제어 및 산업체 기술 경쟁력 제고
◦ 창업촉진을 위한 원천기술 확보
- 본 과제에서 개발된 다양한 성과물이 새로운 아이디어와 결합하여 신속히 창업,사업화로 연결되도록 함

( 출처 : 한글 요약문 4p )

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 1단계 목표달성도 ... 2
• 한 글 요 약 문 ... 4
• Ⅱ. 연구개발의 개요 및 목표 ... 6
• 1. 연구개발 개요 ... 6
• 2. 연구개발 목표 및 평가의 착안점 ... 13
• 3. 연구범위 및 연구수행 방법 ... 16
• Ⅲ. 연구수행 내용 및 결과 (1단계) ... 19
• 1. 1차년도 연구성과 ... 19
• 2. 2차년도 연구성과 ... 22
• 3. 3차년도 연구성과 ... 34
• 4. 4차년도 연구성과 ... 53
• 5. 연구수행방법의 우수성과 등 ... 84
• 6. 고유임무별 기여내용 ... 85
• 7. 연구성과 및 활용 ... 86
• 끝페이지 ... 94