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NTIS 바로가기주관연구기관 | 선문대학교 SunMoon University |
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연구책임자 | 김호섭 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2016-04 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO201800039484 |
과제고유번호 | 1711022577 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발 |
DB 구축일자 | 2018-11-24 |
키워드 | 극자외선.마스크.검사.계측.멀티전자빔.전자칼럼. |
핵심기술
• 차세대 EUV 마스크의 actinic 측정기술
• 웨이퍼 검사용 멀티 전자빔 검사기술
최종목표
• Sub 22nm급 EUV 마스크 actinic 검사장비 및 멀티전자빔 웨이퍼 검사기술을 개발함.
- EUV광원을 사용하여 sub 22nm급 EUV 마스크의 CD 및 CDU 측정을 위한 기술 개발함.
- 4개의 멀티 전자빔(MEB)으로 100 nm 급 BEOL시료 결함을 고속으로 검사하기 위한 멀티 전자빔기술을 개발함.
개발내용 및 결과
• Sub 22nm급 EUV 마
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