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Kafe 바로가기주관연구기관 | (주)AVACO |
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연구책임자 | 안병철 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2016-06 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO201800039548 |
과제고유번호 | 1711026096 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발 |
DB 구축일자 | 2018-11-03 |
키워드 | 고밀도 플라즈마.유연 디스플레이.스퍼터.저온.산화물 박막 트랜지스터.이동도. |
□ 핵심기술
·스퍼터 공정이 늘어나는 것이 특징이며, 기존 poly-Si TFT 공정대비 oxide TFT의 공정수가 절반수준으로 원가경쟁력이 높음
□ 최종목표
·산화물 박막 transistor 증착 공정기술 개발
·산화물 박막 transistor 소자 검증
·대면적 플렉서블 공정이 가능한 sputter 장비 기술개발
□ 개발내용 및 결과
·기존 스퍼터 증착기술과는 상이한 고밀도 플라즈마 및 박막 구현이 가능한 신개념 스퍼터 장치를 구현했으며, 동시에 flexible 기판을 기반으
□ 핵심기술
·스퍼터 공정이 늘어나는 것이 특징이며, 기존 poly-Si TFT 공정대비 oxide TFT의 공정수가 절반수준으로 원가경쟁력이 높음
□ 최종목표
·산화물 박막 transistor 증착 공정기술 개발
·산화물 박막 transistor 소자 검증
·대면적 플렉서블 공정이 가능한 sputter 장비 기술개발
□ 개발내용 및 결과
·기존 스퍼터 증착기술과는 상이한 고밀도 플라즈마 및 박막 구현이 가능한 신개념 스퍼터 장치를 구현했으며, 동시에 flexible 기판을 기반으로 한 고이동도의 산화물 소자를 구현할 수 있었음
□ 기술개발 배경
·TFT-LCD 산업이 성장 정체기에 진입함에 따라 차세대 디스플레이에 대해 논의해야하는 시기임. 이에 대형화면에서의 고해상도,고속구동 실현을 위해서는 기존 a-Si 대비 우수한 전자이동도를 가지는 oxide TFT 적용이 필요하며, 향후 플렉서블 디스플레이 등의 차세대 디스플레이 패널 개발에 기폭제가 될 수 있음
□ 핵심개발 기술의 의의
·산화물 소자 증착기술은 대형화에 유리하고 설비투자를 최대화할수 있는 장점이 있고, poly-Si 공정대비 공정수가 절반수준으로 원가경쟁력이 높으며, 기존 TFT 공정장비의 활용도가 높고 신규 설비투자를 최소화할 수 있음
□ 적용 분야
·AMOLED, flexible 디스플레이, 투명 디스플레이 등의 차세대 디스플레이 산업전반
( 출처: 최종보고서 초록 - 3. 개발결과 요약 4p )
과제명(ProjectTitle) : | - |
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연구책임자(Manager) : | - |
과제기간(DetailSeriesProject) : | - |
총연구비 (DetailSeriesProject) : | - |
키워드(keyword) : | - |
과제수행기간(LeadAgency) : | - |
연구목표(Goal) : | - |
연구내용(Abstract) : | - |
기대효과(Effect) : | - |
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