초록 ▼

핵심기술
저압 열 화학 기상 증착 방식으로 샤워 헤드 유동제어 방식과 가변형 블록 플레이트 부품 등을 적용한 매엽식 450mm 장비

최종목표
- 양산성(High Volume Manufacturing)을 만족하는 장비 개발.
- 양산성(두께 균일도, 표면거칠기, 박막 조성, Step coverage 등) 을 만족하는 공정 개발.

개발내용 및 결과
450mm 대구경 매엽식 저압 열확학 기상증착 방식으로 박막 특성을 확보한 장비 및 공정 개발

기술개발 배경
반도체 소자의 미

핵심기술
저압 열 화학 기상 증착 방식으로 샤워 헤드 유동제어 방식과 가변형 블록 플레이트 부품 등을 적용한 매엽식 450mm 장비

최종목표
- 양산성(High Volume Manufacturing)을 만족하는 장비 개발.
- 양산성(두께 균일도, 표면거칠기, 박막 조성, Step coverage 등) 을 만족하는 공정 개발.

개발내용 및 결과
450mm 대구경 매엽식 저압 열확학 기상증착 방식으로 박막 특성을 확보한 장비 및 공정 개발

기술개발 배경
반도체 소자의 미세화 및 박막화에 대한 열노출 시간 감소 요구에 대한 부응과 생산성을 향상하기 위함

핵심개발 기술의 의의
대구경화에 따른 새로운 가스 유동 흐름 제어 기술 확보와 새로운 온도 제어 기술을 확보하여 450mm 장비 시장 활성화시 시장 선점과 해외 수출도 가능

적용 분야
열노출 시간이 짧고, 두께 균일도가 필요한 반도체 메모리 및 Logic device 생산에 적용

( 출처: 최종보고서 초록 - 3. 개발결과 요약 4p )

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 기술개발사업 최종보고서 초록 ... 3
• 기술개발사업 주요 연구성과 ... 6
• 목차 ... 10
• 제 1 장 서론 ... 11
• 제 1 절 과제의 개요 ... 11
• 제 2 장 과제 수행의 내용 및 결과 (기술개발 내용 및 방법) ... 16
• 제 1 절 최종 목표 ... 16
• 제 2 절 단계 목표 및 평가 방법 ... 17
• 제 3 절 연차별 개발 내용 및 개발 범위 ... 20
• 제 4 절 수행 결과의 보안등급 ... 27
• 제 5 절 유형적 발생품(연구시설, 연구장비 등) 구입 및 관리현황 ... 28
• 제 3 장 결과 ... 29
• 제 1 절 연구개발 최종 결과 ... 29
• 1. 1차년도 추진 일정 및 추진 실적 ... 29
• 2. 2차년도 추진 일정 및 추진 실적 ... 50
• 3. 3차년도 추진 일정 및 추진 실적 ... 72
• 제 2 절 기술개발 추진 체계 ... 92
• 1. 추진 체계 ... 92
• 2. 기술개발팀 편성도 ... 93
• 제 3 절 고용 창출 효과 ... 94
• 제 4 절 자체보안관리진단표 ... 95
• 제 4 장 사업화 계획 ... 96
• 제 1 절 생산 계획 ... 96
• 제 2 절 투자 계획 ... 96
• 제 3 절 사업화 전략 ... 97
• 제 4 절 향후 추가 기술 개발 계획 ... 97
• 끝페이지 ... 97