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NTIS 바로가기주관연구기관 | 홍익대학교 Hongik University |
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연구책임자 | 박승호 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-11 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202000002945 |
과제고유번호 | 1345302106 |
사업명 | 개인기초연구(교육부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2020-07-29 |
키워드 | 빅셀.최적 냉각시스템.급속가열.고출력 대면적.화학적 기상 증착.실리콘 웨이퍼.VCSEL. |
□ 연구개요
본 과제에서는 반도체와 디스플레이 산업에서 이용되는 기존의 다양한 열처리 장비들(CO₂ Laser, Halogen Lamp, Furnace)의 단점을 보완할 수 있는, 에너지 변환효율이 높으면서, 경제성이 있고, 급속열처리를 수행할 수 있는 새로운 고출력 VCSEL을 이용한 열처리 장비를 연구 개발하고자 하였다. 이 과정에서 VCSEL의 열 및 광학적 성능을 확인하였고, 반도체 웨이퍼 어닐링, LPCVD 공정설계 등의 이론적 연구와 실리콘 결정화 및 산화물 박막 어닐링 등의 실험을 통하여 검증하였다.
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