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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국광기술원 Korea Photonics Technology Institute |
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연구책임자 | 손명우 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-06 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100012463 |
과제고유번호 | 1345312699 |
사업명 | 이공학학술연구기반구축(R&D) |
DB 구축일자 | 2021-08-14 |
키워드 | 배선.그래핀.그래핀/금속.저온 합성.도핑.직접 합성. |
□ 연구개요
그래핀을 금속 배선 위에 직접 합성하여 그래핀/금속 적층 구조 기반의 고성능 배선을 제작함. 저온 화학기상증착법으로 300 °C 이하에서 고품질의 그래핀을 합성하고, 금속 배선 위에 직접 그래핀을 합성하여 그래핀/금속 배선을 제작함. 그리고 그래핀에 도핑 공정을 적용하여 그래핀/금속 배선의 전기적 특성을 개선함. 그 결과 그래핀이 적층된 그래핀/금속 배선의 경우 금속 배선에 비해 전기적 특성과 신뢰성이 개선됨. 나아가 실제 배선과 유사한 구조의 다마신 패턴된 금속 배선 위에 직접 그래핀을 합성하여 그래핀/금속 배선
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