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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국해양대학교 Korea Maritime University |
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연구책임자 | 안형수 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-06 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100012640 |
과제고유번호 | 1345313482 |
사업명 | 이공학학술연구기반구축(R&D) |
DB 구축일자 | 2021-08-21 |
키워드 | 전력 반도체 소자.질화알루미늄.수소화물기상에피택시.혼합 소스.실리콘 카바이드.p 도핑.에피택시.화합물반도체.후막. |
□연구개요
차세대 전력 반도체 소자로 응용될 수 있는 우수한 특성을 가진 AlN 재료를 혼합 소스 HVPE 방법을 이용하여 성장하고 그 특성에 관한 연구를 수행하였다.특히 AlN층에 p형 도핑에 관하여 실험하였다. 이를 위해 연구 목표는 가) 차세대 전력 반도체 소자를 위한 p-type doped AlN 에피층 성장 나) SiC 기판 위에 양질의 AlN 에 피층 성장, 다) 전력 반도체 소자용 차세대 p 형 AlN 기판 성장 최적화의 3가지 목표를 두고 진행하였다. 과제 수행을 통해 파워 반도체 소자를 위한 p형 AlN 에피층
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