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NTIS 바로가기주관연구기관 | 전남대학교 Chonnam National University |
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연구책임자 | 허수미 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-06 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 교육부 Ministry of Education |
등록번호 | TRKO202100018450 |
과제고유번호 | 1345319969 |
사업명 | 개인기초연구(교육부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-02-26 |
키워드 | 화학증폭형 레지스트.분자 시뮬레이션.선폭 거칠기.고분자 입체배향.EUV 리쏘그래피.Chemically Amplified Resist.Molecular simulation.Line edge roughness(LER).Polymer conformation.EUV Lithography. |
□ 연구개발 목표 및 내용
• 최종 목표
기존 극자외선 (EUV, Extreme Ultra-Violet) 리쏘그래피용 이미징 소재 및 공정 개발에서 시도되지 않았던 고분자 사슬을 비롯한 이미징 소재 구성요소들의 입체배향 및 구조 변화 여부 등의 물리적/화학적 현상을 규명하기 위한 분자 시뮬레이터를 개발하고, 이를 활용한 분자 수준의 이론적/수치적 모델링을 통해 EUV용 초고해상도와 낮은 선폭 거칠기 (Line Edge Roughness, LER (3б<2nm))를 얻을 수 있는 패터닝 소재 개발 원리를 제공하고자 함.
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