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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)테스 |
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연구책임자 | 이유영 |
참여연구자 | 홍상진 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-08 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO202200005796 |
과제고유번호 | 1415166567 |
사업명 | 생산시스템산업전문기술개발(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-07-23 |
키워드 | 반도체 공정.챔버.세정.불소 가스.플라즈마. |
3. 개발결과 요약
□ 최종목표
☐ NF3 Gas를 대체한 (No Fluorine) RPS Cleaning Module
☐ Direct Plasma 세정 장치
☐ Direct Plasma / RPS의 Hybrid 세정 module
◾ NF3를 사용하지 않고 3000Å/min 이상의 세정효율을 가지는 ACL Hardmask Chamber 세정장치
□ 개발내용 및 결과
저온 및 고온에서 NF3를 사용하지 않으면서도 높은 세정 효율 확보가 가능한 Direct Plasma / RPS의 Hybri
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